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    公开号:WO1987000641A1
    申请号:PCT/DE1986/000299
    申请日:1986-07-21
    公开日:1987-01-29
    发明作者:Manfred Melzig；Erhard Effer
    申请人:Optische Werke G. Rodenstock；
    IPC主号:G02B1-00
    专利说明:
    [0001] Reflexionsvermindernder Belag für ein optisches Element aus organischem Material
    [0002] B e s c h r e i b u n g
    [0003] Technisches Gebiet
    [0004] Die Erfindung bezieht sich auf einen reflexionsvermindern- den Belag für ein optisches Element aus organischem Mate¬ rial mit phototropen Eigenschaften, und insbesondere auf ein derartiges Brillenglas.
    [0005] Stand der Technik
    [0006] In der Vergangenheit sind eine Reihe von Vorschlägen bekanntgeworden, optische Elemente aus organischem Mate¬ rial und insbesondere Brillengläser aus organischem Mate¬ rial phototrop auszugestalten. Unter "phototrop" wird hierbei die Eigenschaft verstanden, daß sich der Farbein¬ druck und die Eindunkelung des optischen Elements mit der Beleuchtungsstärke, d.h. der Stahlungsintensität ändert.
    [0007] Die phototropen Eigenschaften von optischen Elementen aus organischem Material werden in der Regel dadurch erzielt, daß organische Substanzen mit phototropen Eigenschaften, beispielsweise Spirooxazin-Verbindungen in die Matrix des optischen Elements eingebracht oder auf das optische Element aufgebracht werden.
    [0008] Andererseits werden gegenwärtig die meisten Brillengläser mit einem reflexionsvermindernden Belag versehen, der zumeist aus mehreren hoch- und niederbrechenden Schichten besteht. In der Literatur ist. bislang der Frage, welcher reflexionsvermindernde Belag für ein Brillenglas aus organischem Material mit phototropen Eigenschaften am besten geeignet ist, keine Beachtung geschenkt. Bei tat¬ sächlich ausgeführten Brillengläsern aus organischem Material mit phototropen Eigenschaften werden die gleichen reflexionsvermindernden Beläge aufgebracht, wie sie auch für Brillengläser aus organischem Material ohne phototrope Eigenschaften verwendet werden.
    [0009] Darstellung der Erfindung
    [0010] Erfindungsgemäß ist nun erkannt worden, daß sich die Eigenschaften von Brillengläsern aus organischem Material, in die phototrope Substanzen eingebracht oder auf die phototrope Substanzen aufgebracht sind, durch geeignete Wahl eines reflexionsvermindernden Belags beeinflussen lassen.
    [0011] Der Erfindung liegt deshalb die Aufgabe zugrunde, einen reflexionsvermindernden Belag für ein optisches Element aus organischem Material mit phototropen Eigenschaften anzugeben.
    [0012] Eine erfindungsgemäße Lösung dieser Aufgabe ist mit ihren Weiterbildungen in den Patentansprüchen gekennzeichnet.
    [0013] Erfindungsgemäß ist erkannt worden, daß ein reflexionsver- indernder Belag aus mehreren Schichten für ein optisches Element aus organischem Material mit phototropen Eigen¬ schaften folgende Charakteristika besitzen muß:
    [0014] 1. Im Wellenlängenbereich zwischen 330 nm und 380 nm sollte die Reflexion möglichst niedrig sein, um eine ausreichende Anregung der phototropen Substanz bzw. bei Einbringung von mehreren Substanzen der verschiedenen Substanzen zu gewährleisten. 2. Im Wellenlängenbereich unterhalb 330 nm sollte die Reflexion stark ansteigen, da Strahlung in diesem Wellen-
    [0015] J" längenbereich, die den phototropen Effekt ebenfalls an¬ regt, die Lebensdauer des Photoeffekts - wie ebenfalls » erfindungsgemäß erkannt worden ist - herabsetzt.
    [0016] 3. Im Wellenlängenbereich unterhalb von 290 nm spielen die Reflexionseigenschaften des reflexionsvermindernden Belags keine entscheidende Rolle mehr, da die Absorptionseigen¬ schaften der Atmosphäre verhindern, daß eine derartige Strahlung in nennenswertem Umfang die organischen Substan¬ zen anregen und gegebenenfalls schädigen kann.
    [0017] Der erfindungsgemäß vorgesehene reflexionsvermindernde Belag unterscheidet sich damit von den bislang sowohl für Brillengläser aus Kunststoff ohne phototrope Eigenschaften als auch für solche mit phototropen Eigenschaften verwen¬ deten Belägen dadurch, daß er definierte Reflexionseigen¬ schaften nicht nur im Bereich des sichtbaren Lichts von 380 nm bis 780 nm, sondern auch im Bereich zwischen 290 nm und 380 nm hat. Unterhalb von 380nm wurde bislang dem Kurvenverlauf keine Beachtung geschenkt.
    [0018] Der erfindungsgemäße Belag für ein optisches Element aus organischem Material und insbesondere ein Brillenglas mit phototropen Eigenschaften hat damit folgende Vorteile:
    [0019] Er gewährleistet eine ausreichende Anregung des phototro¬ pen Effekts in Abhängigkeit von der jeweiligen Beleuch- tungsstär-ke. Damit ist bei Verwendung des erfindungsge-
    [0020] "* mäßen reflexionsvermindernden Belags die Kinetik des phototropen Effekts besser als bei Verwendung von herkömm-
    [0021] • liehen Belägen.
    [0022] Er verhindert, daß durch Anregung des phototropen Effekts mit zu kurzwelligem Licht die Lebensdauer des phototropen Effekts herabgesetzt wird.
    [0023] Darüberhinaus ergeben sich durch die Verwendung des erfin¬ dungsgemäßen phototropen Belags noch weitere unerwartete Vorteile:
    [0024] Bedingt durch die unterschiedlichen sterischen Lagen der phototropen Moleküle in der Kunststoff-Matrix haben diese unterschiedliche Absorptions- und Kinetikeigenschaften. Durch eine geeignete Wahl der Reflexionseigenschaften des Belags läßt sich eine gezielte Anregung von in bestimmten sterischen Lagen eingebauten phototropen Molekülen und damit eine Beeinflussung der Kinetik und Farbe des photo¬ tropen Effekts erreichen.
    [0025] Baut man in die Matrix des optischen Elements, das bei¬ spielsweise aus organischem Material besteht, mindestens zwei unterschiedliche phototrope Substanzen ein, die unterschiedliche Absorptionsspektren besitzen, so kann man durch die Gestaltung der Reflexionseigenschaften im Be¬ reich zwischen 290 nm und 380 nm eine wesentliche Beein¬ flussung der Farbe des phototropen Effekts erreichen.
    [0026] Wie weiterhin erfindungsgemäß erkannt worden ist, lassen sich die erfindungsgemäßen Eigenschaften des reflexions¬ vermindernden Belags für ein optisches Element aus orga¬ nischem Material mit phototropen Eigenschaften nur mit einem Schichtsystem mit mehr als drei Schichten erfüllen. Bevorzugte Ausführungsformen dieses Schichtsystems sind in den Ansprüchen 4 bis 6 gekennzeichnet. Bei einem Belag, der fünf Schichten aufweist, die abwechselnd aus Silizium¬ dioxid und einem hochbrechenden Material bestehen, läßt sich der erfindungsgemäß vorgesehene Verlauf zwischen 290 nm und 380 nm nur dann befriedigend erreichen, wenn das hochbrechende Material gemäß Anspruch 5 einen Brechungsin¬ dex ne hat,' der mindestens 2,0 ist.
    [0027] Kurze Beschreibung der Zeichnung
    [0028] Die Erfindung wird nachstehend anhand von Ausführungsbei¬ spielen unter Bezugnahme auf die Zeichnung näher beschrie¬ ben, in der zeigen:
    [0029] Fig. 1 einen erfindungsgemäßen Belag mit 5 Schichten, und Fig. 2 bis 5 Reflexionskurven verschiedener Ausführungs beispiele.
    [0030] Weg zur Ausführung der Erfindung
    [0031] Fig. 1 zeigt einen erfindungsgemäßen Belag mit 5 Schich¬ ten, von denen die erste direkt auf dem optischen Element O aufgebrachte Schicht 1 aus Si02, die zweite Schicht 2 aus einem hochbrechenden Metalloxid, die dritte Schicht 3 aus Si0_, die vierte Schicht 4 wiederum aus einem hoch¬ brechenden Metalloxid und die fünfte Schicht 5 aus SiO- besteht.
    [0032] Ferner ist es auch möglich, die Schicht 1 in drei Teil¬ schichten 1 ', 1", 1"' aufzuspalten, die aus SiO-, einem hochbrechenden Metalloxid und SiO- bestehen.
    [0033] In der nachstehenden Tabelle 1 ist für verschiedene hoch¬ brechende Materialien (hM) der Aufbau des Schichtsystems mit 5 Schichten sowie der Brechungsindex n des hochbre¬ chenden Materials angegeben, d.h. der Brechungsindex für Licht mit der Wellenlänge 546, 1nm. Dabei ist vorausge¬ setzt, daß das Substrat 0 einen Brechungsindex von (etwa) 1 ,502 hat. Tabelle 1
    [0034]
    [0035] Schicht/ne 2,00 2,10 2,23
    [0036] 1 (Si02) 175 175 180 nm
    [0037] 2 (hM) 17,3 14,2 12,9 nm
    [0038] 3 (Si02) 36,4 37,1 35,3 nm
    [0039] 4 (hM) 121 ,3 123,8 120,8 nm
    [0040] 5 (Si02) 87,5 87,5 91 ,2 nm
    [0041] In Tabelle 2 ist ein Ausführungsbeispiel für ein Schicht¬ system mit 7 Schichten angegeben.'
    [0042] Tabelle 2
    [0043] hM: Ti2°3 n. = 2,23
    [0044] (Si02) = 50 ; 1" (hM) = 5,2; 1"'(Si02) = 112,3
    [0045] 2 (hM) = 10.9: 3 (Si02) = 37,3; 4 (hM) = 115,6
    [0046] 5 (Si02) = 78,4
    [0047] In den Figuren 2 bis 5 sind die Reflexionsfaktoren r( ) (in % ) der in Tabelle 1 bzw. 2 angegebenen Schichtsysteme als Funktion der Wellenlänge des auftreffenden Lichts angegeben. Man erkennt deutlich als gemeinsame Eigenschaft aller Schichtsysteme, daß der Maximalwert r(' ) der Refle¬ xion im Bereich zwischen 330nm und 380nm den Wert 6% nicht übersteigt, während die gemäß
    [0048] r Ü ) = f τ Cλ )o I ]<*%
    [0049] über diesen Wellenlängenbereich gemittelte Reflexion r( "X ) kleiner als 3% ist. Im Bereich zwischen 290nm und 330nm übersteigt der Maximalwert der Reflexion den Wert 25%, wobei die über diesen Bereich gemittelte Reflexion größer als 15% ist. Der Abfall unter 290nm, der bei einigen Reflexionskurven auftritt, ist bedeutungslos, da Strahlung in diesen Wellenlängenbereich aufgrund der Absorptionsei¬ genschaften der Atmosphäre keine Rolle spielt.
    [0050] Vorstehend ist die Erfindung exemplarisch beschrieben worden. Es versteht sich von selbst, daß innerhalb des erfindungsgemäßen Grundgedankens, die Lebensdauer, die Kinetik sowie bei Verwendung mehrerer sich unterschiedlich einfärbender phototroper Substanzen den Farbeindruck durch geeignete Ausbildung des reflexionsvermindernden Belags zu beeinflußen, die verschiedensten Modifikationen möglich sind.
    [0051] Beispielsweise ist das erfindungsgemäße Schichtsystem nicht nur für phototrope optische Elemente mit einem Brechungsindex von etwa 1 ,5, sondern auch für Elemente mit einem höheren Brechungsindex brauchbar. Auch ist es mög¬ lich, anstelle der in den Beispielen angegebenen hochbre¬ chenden Materialien die verschiedensten Materialien mit anderen Brechungsindices zu verwenden, sofern diese größer/gleich 2,0 sind. Auch können unterschiedliche hochbrechende Materialien in einem Schichtsystem verwendet werden.
    [0052] Besonders vorteilhaft ist jedoch in jedem Falle die Ein¬ haltung der erfindungsgemäß angegebenen Bedingung für das Dickenverhältnis. Es versteht sich jedoch von selbst, daß die angegebene Beziehung nur innerhalb gewisser, material¬ abhängiger Toleranzen erfüllt sein muß.
    [0053] Ferner können auch optische Elemente beschichtet werden, die nicht aus organischem Material bestehen, sofern die in ihnen enthaltenen phototropen Substanzen ähnliche Eigen¬ schaften wie vorstehend angegeben haben.
    权利要求:
    ClaimsP a t e n t a n s p r ü c h e
    1. Reflexionsvermindernder Belag aus mehreren Schichten für ein optisches Element aus organischem Material mit phototropen Eigenschaften dadurch gekennzeichnet, daß die über den Bereich zwischen 330nm und 380nm gemittelte Reflexion des Belags kleiner als 4% und die über den Bereich zwischen 290nm und 330nm gemittelte Reflexion größer als 15% ist.
    2. Belag nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, daß die über den Wellenlängenbe¬ reich zwischen 330nm und 380nm gemittelte Reflexion klei¬ ner als 2,5% ist.
    3. Belag nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die maximale Reflexion im Wellenlängenbereich zwischen 290 nm und 330 nm größer als 25% ist.
    4. Belag nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die maximale Reflexion im Wellenlängenbereich zwischen 330nm und 380 nm kleiner als 5% ist.
    5. Belag nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß der Belag mindestens fünf Schichten aufweist, die abwechselnd aus Siliziumdioxid und einem Material mit einem Brechungsindex n 2,0 bestehen, von denen die erste direkt auf dem optischen Element aufgebrachte Schicht aus Siliziumdioxid besteht und eine Dicke von etwa % /2 hat, daß sich die Dicken der zweiten, dritten und vierten Schicht wie
    1 : 2Y : 20Z/3 verhalten, mit
    Y = X + 1 ,5(ne - 1,8); Z « X _+_ 0,2;
    X = 1,05 + (n e - 2)1 (4 " ne)
    und daß die Summe der Dicken der zweiten bis vierten Schicht ebenfalls etwa /2 ist, wobei die dritte Schicht eine /4-Schicht ist ( '^ = 350 nm) .
    6. Belag nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Schicht in drei Teilschichten aufgespalten ist, die aus Siliziumdioxid, einem hochbrechenden Material und wiederum aus Silizium¬ dioxid bestehen, und daß die Dicke der mittleren hochbre¬ chenden Schicht 1/100 bis I/50 ist.
    7. Belag nach Anspruch 5 oder 6, dadurch gekennzeichnet, daß das hochbrechende Material Neodymoxid, Titanoxid oder Terbiumoxid ist.
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    优先权:
    申请号 | 申请日 | 专利标题
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